兩個研磨平臺同時使用，運行平穩(wěn)且一致性好，可根據(jù)實際樣品選擇不同研磨罐、研磨珠，具有記憶功能，可設定6個操作程序，研磨時間、頻率可設定，適用多種復雜或堅硬的樣品。使用封閉式研磨罐，無交叉污染，LED等可顯示脈動標記、時間、速度等每個功能的狀態(tài)，簡單易操作，特殊設計的螺旋蓋防止?jié)衲r液體泄漏，超離心研磨儀研磨時間短，不會使樣品在研磨過程中升溫而變質，樣品在進料口進入研缽，在旋轉的研缽與研杵之間不斷的進行擠壓，摩擦，根據(jù)不同的樣品調(diào)節(jié)研杵的位置、壓力，樣品在鏟料頭的作用下被反復不斷的擠壓、摩擦、混合，實現(xiàn)了樣品的均質化、混合化。

　　不僅適用于對硬性、中硬性、脆性，軟性、彈性、纖維質材料的細粉碎和精細研磨，還適用于小量樣品，進行快速干磨、濕磨或者冷凍研磨。此外，高通量組織研磨儀還特別適用于生物細胞破壁以及DNA/RNA的提取。以其*的性能和高超的靈活度而成為實驗室的*的儀器。適用于實驗干樣品或懸浮液中固體樣品的精細研磨粉碎，適用于乳狀液或糊狀物的均勻化處理，適用于納米材料分散，效果優(yōu)于普通機械法和超聲波法，適用于無機礦物材料的表面改性、光飾作用，金屬材料的機械合金化。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)某x心研磨儀，來控制研磨漿料溫度以降低或避免運動影響。用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。平面研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
 

　　具有多種特性，具體如下：

　　1、研磨速度快：利用高速旋轉，能迅速將樣品研磨成細粉末，大大減少了研磨時間，從而提升了工作效率。

　　2、研磨效果好：通過研磨珠在離心力作用下對樣品進行反復撞擊和研磨，樣品能夠被研磨得非常細小，這確保了實驗結果的準確性。

　　3、操作便利：設備采用簡潔的操作面板設計，易于掌握使用方法。同時，具備自動停止功能，能在研磨完成后自動停止旋轉，避免操作不當帶來的安全風險。

　　4、應用范圍廣：適用于軟性至中硬性以及溫敏性樣品或纖維材料的高速研磨，可進行溫和、中性的分析樣品制備。

　　5、配件多樣：提供各種配件，保證應用的多樣化，滿足不同類型樣品的研磨需求。

　　6、轉數(shù)區(qū)間大：擁有很大的轉數(shù)區(qū)間，可調(diào)范圍廣，使得設備能夠適應不同的研磨要求。

　　7、噪音低運行穩(wěn)定：優(yōu)化的設計確保設備在運行時噪音低，且運行穩(wěn)定，清潔也方便。

　　8、參數(shù)設置人性化：參數(shù)輸入通過液晶屏幕菜單和快捷單鍵操作，使用起來舒適便捷。

　　9、安全性高：合成材料制成的安全外殼以及頂蓋自動收合設計，提高了使用時的安全性。

　　10、多功能處理能力：可以進行干磨、濕磨、混合以及均質化處理，適用于多種不同的實驗需求。

　　11、粉碎技術先進：采用效率高的粉碎技術和豐富的配件，使其能夠廣泛應用于不同類型的樣品研磨。